氢氟酸与氮化硅和氧化硅

实验上要用到BOE，氢氟酸缓冲液。目的是处理石墨烯，石墨烯一般是在300nm的氧硅层上的，然而氧化硅会受到氢氟酸腐蚀，导致石墨烯质量下降。所以，需要用氢氟酸处理的基片要使用氮化硅沉底。
此次氮化硅沉底购买于淘宝店，产地黑龙江，淘宝上的氮硅片只有四寸片，与实验室的光刻不兼容。所以，没有做对准标记，直接划片了。转移石墨烯等等都没有问题。用BOE处理过后，表面形貌无明显变化，至少可以说氮化硅是更适合石墨烯氢氟酸处理的衬底了。本次购买的氮化硅膜厚度为50nm，中掺杂硅，整体上硅片较薄，外观呈黄色。
后续的打算是，直接购买高掺杂硅片，实验室自己做氮化膜，至于厚度还不确定。然后，使用两片氮化硅膜和两片氧化硅膜去做对准标记。
关于对准标记的金属，可能和之前的理解不同。钛用BOE处理二十秒都没有问题还是金灿灿的。同时，镍铬反而更容易掉落，即使没有用BOE，至于掉落的原因，可能是镀镍铬的质量不够好，用镍铬标记片去捞石墨烯的之后，基片上残存的物质有石墨烯，PMMA以及盐酸，这几种物质的混合物使得镍铬脱落，涂上电子束光刻胶之后完全看不到对准标记。
综上，新的对准标记的金属应该采用氮化硅加上钛的组合。具体实施步骤是，拿到硅片，洗片，去做氮化，然后做对准标记（光刻镀钛剥离）。

镀了镍铬的，转了石墨烯的衬底片，看，有很多字母都掉了

镀钛的转了石墨烯的基片，绝大部分的字母都保存完好

氮化硅沉底上转了石墨烯，依然能看出形貌，这个才是技术的发展方向